拓展光刻胶 三菱化学扩产Lithomax感光树脂

6月12日，三菱化学（Mitsubishi）宣布在日本福冈县北九州市的三菱化学九州福冈工厂内，将建设一座全新的工厂，以显著提升半导体ArF和EUV光刻胶用Lithomax™感光树脂的产能。这一决策标志着三菱化学在半导体材料领域的又一重大布局，将进一步巩固其在全球半导体产业链中的领先地位。

随着半导体技术的飞速发展，对光刻胶等关键材料的需求日益增长。光刻胶是半导体制造过程中的核心材料之一，用于在硅片上形成精确的电路图案。其中，ArF和EUV光刻胶作为目前最先进的半导体制造技术所需的关键材料，其市场需求尤为旺盛。

为了满足市场对ArF和EUV光刻胶的旺盛需求，三菱化学决定在北九州市建设新工厂，专注于提升Lithomax™感光树脂的产能。Lithomax™作为三菱化学自主研发的高性能感光树脂，具有优异的分辨率、感光速度和稳定性，被广泛应用于ArF和EUV光刻胶中。

据三菱化学介绍，新工厂将引进先进的生产设备和工艺，以确保Lithomax™感光树脂的生产质量和稳定性。同时，集团还将加强研发力度，不断优化产品性能，以满足市场对更高性能光刻胶的需求。

新工厂的建设将进一步提高三菱化学在半导体材料领域的市场竞争力。作为全球领先的化学材料生产商之一，三菱化学一直致力于为半导体行业提供高品质、高性能的材料解决方案。此次新工厂的建设，不仅将提升Lithomax™感光树脂的产能，还将为三菱化学带来更多的市场机遇和发展空间。