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科优材料光刻胶发明专利获批 助力先进芯片制程材料突破

来源: 广东科优材料科技有限公司 2025-11-06 16:21

慧正资讯,近日,国家知识产权局正式授予广东科优材料科技有限公司 “一种光刻胶组合物及其制备工艺” 发明专利(专利号:ZL 2025 1 0040997.1)。该专利的获批,标志着科优材料在光刻胶技术领域取得关键突破,为我国先进芯片制程的材料国产化进程添砖加瓦。

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光刻胶作为微电子技术中微细图形加工的关键材料,在芯片制程不断缩小的趋势下,对其分辨率的要求日益严苛。科优材料此次发明的光刻胶组合物及其制备工艺,聚焦于提升光刻胶分辨率这一行业核心痛点,为适应更先进的芯片制程提供了创新解决方案。

广东科优材料科技有限公司是一家集光电化学材料研发、生产制造、贸易应用服务于一体的新材料供应链企业。公司在广州、中山、江门、上海分别设立运营、实验、生产、销售中心,拥有一支由高素质专业人才组成的研发、销售和应用服务团队。其经营产品涵盖光电材料、树脂、助剂、单体、引发剂等,应用领域广泛涉及新能源、光学、电子、涂料、油墨等多个行业。同时,公司与台湾长兴、天津久日、日本大金、台湾国精、台湾奇钛等知名企业建立了长期稳定的战略合作关系,在材料供应链与技术协作方面具备深厚优势。

此次光刻胶发明专利的成功授权,是科优材料在电子材料领域技术研发实力的有力证明。未来,科优材料将继续深耕新材料领域,以技术创新为驱动,不断突破关键材料技术瓶颈,为我国电子信息产业的高端化、国产化发展贡献更多力量。

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